中国量产 duv ASML 熔断
中国量产DUV传闻致ASML大跌，坛友热议国产光刻机技术突破。
最新动态
- 传闻与市场反应：路透社引述《The Information》报道称中国已开始制造国产DUV光刻设备（#1），引发ASML欧股大跌5%至8%并触发熔断（#5, #8, #10）。由于ASML是欧股权重股，其大跌对市场情绪影响显著（#13）。
争议或不同意见
- 消息真实性：部分坛友持保留态度（#4），指出该外媒关于中国国内的消息往往不准，但也有消息称今年1月已进行试机（#9）。
- 国产EUV时间线：有坛友预测国产EUV光刻机要到2030年才能实现（#2, #12），也有人担忧若需30年则为时已晚（#11, #14）。
- DUV工艺极限：有观点认为DUV想做高阶芯片只能依靠多重曝光，7nm已是极限，AI芯片若不用EUV良率会极低（#15）；但也有坛友反驳称早已有技术通过DUV做到了4nm（#16）。
风险/限制/注意事项
- 产业链受制于人：坛友指出DUV技术虽早有突破，但EUV的核心零部件主要集中在美、德、日等国，要实现EUV的国产化必须在整个产业链的每一个环节都取得突破，难度极大（#17）。